Diffusion_1

Diffusion與Poly

1.層級介紹

Diffusion：

圖一中的方塊開口是由Diff層所繪製的，稱作主動區，用以製作MOS，而其他由矽氧化層所構成的非主動區則採佈線用。

 

PIMP：

所要摻雜的半導雜質，藉由Diff層外圍所繞的PIMP或NIMP決定，如圖二(a)到(d)所示。